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(一)
專利類別：發明專利
專利國家：中華人民共和國
專利號碼：02124404.9
專利名稱：含異原子的聚合物,含該聚合物的感光樹脂組合物及應用
專利生效日期：2004/01
(二)
專利類別：發明專利
專利國家：中華人民共和國
專利號碼：ZL99126266.2
專利名稱：含不飽合鍵支鏈的共聚物及其光致抗蝕劑組合物
專利生效日期：2003/07
(三)
專利類別：發明專利
專利國家：中華民國
專利號碼：146549
專利名稱：水溶性聚合物以及含有該聚合物之光阻劑組成物
專利生效日期：2005/11
(四)
專利類別：發明專利
專利國家：中華民國
專利號碼：206480
專利名稱：含異原子之聚合物，含有該聚合物之感光樹脂組成物，以及含有該樹脂組成物之噴墨頭製程用光阻劑
專利生效日期：2004/06
(五)
專利類別：發明專利
專利國家：中華民國
專利號碼：207275
專利名稱：感光厚膜材料組合物
專利生效日期：2004/06
(六)
專利類別：發明專利
專利國家：中華民國
專利號碼：I239433
專利名稱：含不飽合鍵支鏈之共聚物以及含有該共聚物之光阻劑組成物
專利生效日期：2005/09
(七)
專利類別：發明專利
專利國家：中華民國
專利號碼：I242688
專利名稱：含不飽和鍵之水溶性共聚物以及含有該共聚物之感光樹脂組成物
專利生效日期：2005/11
(八)
專利類別：發明專利
專利國家：美國
專利號碼：6432616
專利名稱：Water soluble polymer and photoresist composition containing the same
專利生效日期：2002/08
(九)
專利類別：發明專利
專利國家：美國
專利號碼：6800420
專利名稱：Photosensitive Thick Film Composition
專利生效日期：2004/10
(十）
專利類別：發明專利
專利國家：中華民國
專利號碼：I438215
專利名稱：聚合物及其製造方法，以及包括其之光學元件及光電裝置
POLYMERS AND METHOD FOR FORMING THE SAME、OPTICAL ELEMENTS、AND PHOTOELECTRIC DEVICES EMPLOYING THE SAME
專利生效日期：2014/05
(十一）專利類別：發明專利
專利國家：中華人民共和國
專利號碼：ZL 2009 1 0262437.1
專利名稱：聚合物及其製造方法，以及包括其之光學元件及光電裝置
POLYMERS AND METHOD FOR FORMING THE SAME、OPTICAL ELEMENTS、AND PHOTOELECTRIC DEVICES EMPLOYING THE SAME
專利生效日期：2014/05
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授課科目
(C402A014)基礎複合材料
(C402A114)基礎複合材料
(C402C309)基礎複合材料
(C403A014)半導體製程技術
(C403A114)半導體製程技術
(C403A214)半導體製程技術
(C403B315)半導體製程技術
(C404A005)半導體製程技術
(C404A105)半導體製程技術
(C404B205)半導體製程技術
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